Tiến bộ mới của Trung Quốc trong sản xuất chip 3nm
Trung Quốc đang tiến tới sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ quang khắc kém tiên tiến hơn khi bị các nước tiên tiến hạn chế tiếp cận máy EUV của ASML.
Trung Quốc đang tiến tới sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ quang khắc kém tiên tiến hơn khi bị các nước tiên tiến hạn chế tiếp cận máy EUV của ASML.
Chip CTDA200M do kỹ sư Việt Nam thiết kế đánh dấu bước tiến mới trong công nghệ lõi, mở đường cho việc làm chủ vi mạch và xây dựng hệ sinh thái bán dẫn nội địa.